MTK臭氧水生成器的特征

■臭氧水浓度高（很大30ppm）

■臭氧水中无金属杂质

半导体，液晶，太阳能电池等洁净规格（臭氧水生成部由氟素树脂材料组成）

■臭氧浓度上升快，达到臭氧很大浓度仅需大约1分钟

■生成器体积小。长400mm。宽550mm。高820mm（标准规格）

■与其他公司产品相比价格低廉

使用臭氧水清洗的优点

①减少化学药品的使用

a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用，难以使用。而近年，臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器，便可以简单地产生臭氧，因此可大大降低运营成本。

b) 使用臭氧水进行清洗处理后，臭氧成分便迅速蒸发，因此废水处理也十分容易。

②出色的清洗能力(颗粒， 金属污染物，有机物质)

因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注）

臭氧水发生器参数

臭氧生成方式：无声放电法

将臭氧气体溶解于纯净水的方法：喷射方式

臭氧水中臭氧的浓度监测：紫外吸收法

臭氧水浓度：30ppm

臭氧水流量：50L /min

设备尺寸：宽度400mm 深度550mm 高度850毫米

重量：20　～　100Kg

消耗功率：～３KW

氧气压力：为0.1MPa（供给为0.3MPa）

氧气纯度：99.5％（指定）

氧气消耗量：～16L/min.

供应纯净水的压力：0.20Mpa以上（理想值0.25MPa）

供应纯净水的温度：低于25℃

臭氧气体生成部的冷却水温度：理想值为20℃以下。如无法实现，需根据情况增加冷却器（可选）。

CO2气体消耗量： 

臭氧浓度过高时需通过纯净水行注入：

使用臭氧水生成装置的用途

◯半导体（清洗）

◯FPD，液晶（清洗）

◯MEMS，传感器（清洁）

◯硬盘（清洗）

◯太阳能电池（清洁）

◯医疗（洗手，纯净水管道清洗）

◯食品（洗手，消毒，除臭）