原子层沉积系统PICOSUN® R-200 ALD标准版

技术特点

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典型的基板尺寸和类型

50–200 mm 单晶片

156 mm x 156 mm 太阳能硅晶片

3D 对象

粉末和颗粒

小批量

多孔、通孔和高纵横比（高达 1:2500）

图标产品温度计

加工温度

50 – 500°C

典型工艺

Al 2 O 3、TiO 2、SiO 2、Ta 2 O 5、HfO 2、ZnO、ZrO 2、TiN、AlN、Pt或Ir等金属

图标产品起重机钩

基板装载

使用气动升降机手动装载

带磁性机械臂的负载锁

前体

液体、固体、气体、臭氧多达 6 个源，带 4 个独立入口

选项

Picoflow™ 扩散增强剂、RGA、N2 发生器、气体洗涤器、定制设计、惰性装载手套箱兼容性

PICOSUN® R-200 标准 ALD 系统是热 ALD 研究工具的市场领导者。它已成为创新驱动的公司和研究机构的首选工具。

灵活的设计可实现 很高质量的 ALD 薄膜沉积以及系统的终极灵活性，以适应未来的需求和应用。获得 的热壁设计具有完全独立的入口和仪器，可实现无颗粒处理，适用于晶圆、3D 物体和所有纳米级特征上的各种材料。得益于我们专有的 Picoflow™ 技术，即使在 很具挑战性的通孔、超高纵横比和纳米颗粒样品上也能实现出色的均匀性。PICOSUN® R-200 标准系统配备功能强大且易于更换的液态、气态和固态化学品前体源。与手套箱、粉末室和各种原位分析系统集成，可实现高效灵活的研究，并取得良好的结果，